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Fichier:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

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Fichier d’origine ‎(713 × 605 pixels, taille du fichier : 80 kio, type MIME : image/jpeg)

Ce fichier et sa description proviennent de Wikimedia Commons.

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Description
English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.
Date
Source Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.
Auteur Lawrence Livermore National Laboratory
Autorisation
(Réutilisation de ce fichier)
Public domain Cette image est un travail d'un employé du Département de l'Énergie des États-Unis (ou précédentes organisations) prise dans le cadre des fonctions officielles de cette personne. Comme travail du Gouvernement fédéral des États-Unis, cette image est dans le domaine public.

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Date et heureVignetteDimensionsUtilisateurCommentaire
actuel22 septembre 2011 à 20:19Vignette pour la version du 22 septembre 2011 à 20:19713 × 605 (80 kio)Bomazi{{Information |Description ={{en|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} |Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio.

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