Fichier:Masqueur electronique.GIF
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Date et heure | Vignette | Dimensions | Utilisateur | Commentaire | |
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actuel | 21 avril 2007 à 12:38 | 1 234 × 1 582 (127 kio) | EdC | {{Information |Description="Masqueur électronique", developped nearby 1970 by Jacques Trotel, Thomson-CSF. It was the first e-beam lithography instrument equiped with a laser interferometry. |Source=Archives CAMECA |Date=1970 |A |
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