Fichier:PVD-CVD.jpg

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Description

English: Representation of a coating from the group of physical vapor deposition (PVD), such as the thermal evaporation. In this method, a material in vacuum environment is heated/evaporated (thermal, laser or electron bombardment) in an evaporator and the resulting material vapor spreads straight from the evaporator in the direction of the substrate.

Deutsch: Darstellung eine Beschichtungsanlage aus der Gruppe der physikalische Gasphasenabscheidung (engl. physical vapor deposition, PVD), beispielsweise das thermische Verdampfen. Bei diesem Verfahren wird ein Material in Vakuumumgebung in einem Verdampfer erhitzt/verdampft (thermisch, durch Laser oder Elektronenbeschuss), der entstehende Materialdampf breitet sich geradlinig vom Verdampfer in Richtung Substrat aus.

Date

4 août 2010

Source

Travail personnel

Auteur

Dipl-ing-metaller

Autorisation
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actuel	9 février 2014 à 09:26	759 × 618 (51 kio)	Cepheiden	Reverted to version as of 14:41, 7 September 2010; no watermarks and ugly border shadows
	3 mars 2013 à 15:59	808 × 682 (94 kio)	Mrsos256	Reverted to version as of 07:21, 6 September 2010
	7 septembre 2010 à 16:41	759 × 618 (51 kio)	Cepheiden	cropped; without shadow
	7 septembre 2010 à 14:42	808 × 682 (90 kio)	Dipl-ing-metaller	Wasserzeichen entfernt
	6 septembre 2010 à 09:21	808 × 682 (94 kio)	Dipl-ing-metaller	{{Information \|Description={{en\|1=The vacuum based processes are basically distinguished into physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). With these two methods of thin-film technology coating thicknesses from some 100nm up to a f